標(biāo)題: 離子束輔助蝕刻 [打印本頁]
作者: jfkj2020    時間: 2021-1-6 11:10
標(biāo)題: 離子束輔助蝕刻
在半導(dǎo)體器件的制造中，蝕刻是指將選擇性地從襯底上的薄膜中去除材料的技術(shù)（在其表面上有或沒有先有結(jié)構(gòu)），并通過這種去除在襯底上形成該材料的圖案。該圖案由耐蝕刻工藝的掩模限定，該掩模的產(chǎn)生在光刻中詳細(xì)描述。一旦放置好掩模，就可以通過濕化學(xué)或“干”物理方法蝕刻不受掩模保護(hù)的材料。圖1顯示了此過程的示意圖。

半導(dǎo)體蝕刻（1月6）.docx

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在半導(dǎo)體器件的制造中，蝕刻是指將選擇性地從襯底上的薄膜中去除材料的技術(shù)（在其表面上有或沒有先有結(jié)構(gòu)） ...



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