標題: 光刻工藝是半導體制造中最為重要的工藝步驟之一 [打印本頁]
作者: jfkj2020    時間: 2021-1-12 10:29
標題: 光刻工藝是半導體制造中最為重要的工藝步驟之一
光刻工藝是半導體制造中最為重要的工藝步驟之一。主要作用是將掩膜板上的圖形復制到硅片上，為下一步進行刻蝕或者離子注入工序做好準備。光刻的成本約為整個硅片制造工藝的1/3，耗費時間約占整個硅片工藝的40～60%。

半導體光刻工藝及光刻機全解析（1月12）.docx

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