標(biāo)題: 等離子體光刻膠去除的主要優(yōu)點是消除了液體槽和對化學(xué)品的操作 [打印本頁]
作者: jfkj2020    時間: 2021-1-14 10:32
標(biāo)題: 等離子體光刻膠去除的主要優(yōu)點是消除了液體槽和對化學(xué)品的操作
同刻蝕一樣，干法等離子體工藝也可用于光刻膠去除。將晶圓放置于反應(yīng)室中．并通入氧氣。等離子體場把氧氣激發(fā)到高能狀態(tài)，因而將光刻跤成分氧化為氣體由真空泵從反應(yīng)室吸走。術(shù)語灰化（ashlng〕用來說明那些設(shè)計成用來只去除有機(jī)殘留物的等離子體工藝。等離子去除需要去除有機(jī)和無機(jī)兩種殘留物的工藝。在干法去除機(jī)中，等離子體由微波，射頻和UV臭氧源共同作用產(chǎn)生。

半導(dǎo)體系列之十步圖形化工藝流程（1月14）.docx

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