低于大氣壓的化學(xué)氣相沉積-SACVD

電梯直達(dá)

樓主

ID:864797 發(fā)表于 2021-1-6 11:11 | 只看該作者回帖獎(jiǎng)勵(lì)

用于制造微電子器件的薄膜都是使用某種沉積技術(shù)形成的，該術(shù)語是指在基板上形成沉積物。在半導(dǎo)體器件制造中，以下沉積技術(shù)（及其常用的縮寫）為：

低壓化學(xué)氣相沉積-LPCVD

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積-PECVD

低于大氣壓的化學(xué)氣相沉積-SACVD

大氣壓化學(xué)氣相沉積-APCVD

原子層沉積-ALD

物理氣相沉積-PVD

超高真空化學(xué)氣相沉積-UHV-CVD

類金剛石碳-DLC

商業(yè)電影-CF

外延沉積-Epi

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用于制造微電子器件的薄膜都是使用某種沉積技術(shù)形成的，該術(shù)語是指在基板上形成沉積物。在半導(dǎo)體器件制造中 ...

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